Prof. Michał Leszczyński z laboratorium NL12 Instytutu Wysokich Ciśnień PAN wygłosi referat zaproszony podczas konferencji 12th International Forum on Wide Bandgap Semiconductors and the 23rd China International Forum on Solid State Lighting (IFWS & SSLCHINA) 2026, która odbędzie się w dniach 16–19 listopada 2026 r. w Suzhou w Chinach.
Referat zaproszony „Keynote” pt. „AlGaInN epitaxy for 3D projectors – degradation issues” autorstwa Mike Leszczyński, Ewa Grzanka, Mikołaj Grabowski i Robert Czernecki zostanie zaprezentowany w czasie sesji F4 Compound Semiconductor Laser Diode Technologies.
IFWS & SSLCHINA to międzynarodowe forum poświęcone półprzewodnikom szerokoprzerwowym i technologiom oświetlenia półprzewodnikowego, łączące środowiska naukowe, przemysłowe i instytucjonalne.