| Nazwa: | Stanowisko do ultradźwiękowego osadzania powłok składających się z nanocząstek |
| Osoba kontaktowa: | dr inż. Urszula Szałaj, e-mail: u.szalaj@labnano.pl |
| Laboratorium: | NL-4 |
| Lokalizacja: | al. Prymasa Tysiąclecia 98, Warszawa |
Możliwości badawcze i dane techniczne
Autorskie stanowisko do ultradźwiękowego osadzania powłok składających się z nanocząstek w warunkach kontrolowanego środowiska (Cleanroom). Laboratorium oferuje usługę pokrywania materiałów o różnym składzie i budowie funkcjonalizując ich powierzchnie poprzez nadanie specyficznych właściwości fizyko-chemicznych, biologicznych czy strukturalnych, np. osteoindukcyjne, przeciwbakteryjne, przeciwnowotworowe, nano-chropowate, aktywne biologicznie. Osadzanie odbywa się przy użyciu unikalnej metody ultradźwiękowej opatentowanej przez IWC PAN. Proces zachodzi w zawiesinach wodnych z nanocząstkami w temperaturze pokojowej przy użyciu urządzenia ultradźwiękowego o wydajności przemysłowej. Metoda polega na zanurzeniu pokrywanego obiektu w cieczy będącej zawiesiną nanocząstek i działaniu na ciecz w pobliżu obiektu energią ultradźwiękową o wysokiej mocy. Czas procesu trwa od 5 min do 30 min, a sam proces może być wykonany w temperaturze pokojowej. Metoda ta umożliwia osadzanie nanocząstek na różnorodnych podłożach, praktyczne bez ograniczeń, np.: tworzywach sztucznych (PEEK, PCL, PMMA, inne), tekstyliach, materiałach ceramicznych, materiałach metalicznych (np. tytan). Pokrywane obiekty mogą mieć powierzchnię gładką lub porowatą. W przypadku obiektów porowatych uzyskuje się pokrycie również wewnątrz porów materiału.