| Nazwa: | Maszyna do polerowania mechaniczno-chemicznego |
| Osoba kontaktowa: | Dr inż. Grzegorz Kamler |
| Laboratorium: | NL-3 |
| Lokalizacja: | ul. Sokołowska 29/37 Warszawa |
Możliwości badawcze i dane techniczne
Maszyny CMP (polerowanie mechaniczno-chemiczne) konstrukcji IWC PAN, przeznaczone do polerowania GaN oraz innych monokryształów o średnicy do 2 cali, umożliwiające uzyskanie powierzchni atomowo gładkiej..