| Nazwa: | Maszyna do polerowania mechaniczno-chemicznego |
| Osoba kontaktowa: | inż. mgr Aneta Sidor-Żak |
| Laboratorium: | NL-3 |
| Lokalizacja: | ul. Strużańska 8 Stanisławów Pierwszy |
Możliwości badawcze i dane techniczne
Maszyna CMP (polerowanie mechaniczno-chemiczne) konstrukcji IWC PAN, pozwalająca uzyskać powierzchnię atomowo gładką.