| Name: | Maszyna do polerowania mechaniczno-chemicznego |
| Contact person: | inż. mgr Aneta Sidor-Żak |
| Laboratory: | NL-3 |
| Location: | ul. Strużańska 8 Stanisławów Pierwszy |
Research capabilities and technical data
CMP (chemical-mechanical polishing) machine of IWC PAN design, enabling surfaces with atomic step.