Institute of High Pressure Physics

7 lutego 2018 r. w Budynku Nowych Technologii IWC PAN w al. Prymasa Tysiąclecia 98, odbyło się Sympozjum Sprawozdawcze Instytutu Wysokich Ciśnień PAN z działalności naukowej w 2017 roku.

Podczas 40 prezentacji podzielonych pomiędzy 6 paneli tematycznych, członkowie Rady Naukowej oraz pracownicy naukowi Instytutu mieli okazję zapoznać się z dorobkiem wszystkich Laboratoriów IWC PAN.

AMMONO (leased and led by the Institute of High Pressure Physics of the Polish Academy of Sciences) offers gallium nitride wafers of the highest quality in the world. They are prepared from bulk GaN crystallized with ammonothermal method. In order to meet the requirements of the nitride community, AMMONO is now able to prepare wafers with a large offcut angle (large misorientation). It can reach up to 2 deg. for 1-inch and 1.5-inch GaN. Substrates with such specifications are often required for optoelectronic devices. The significant advantage of AMMONO-GaN wafers is their uniformity in terms of the offcut angle. This is specifically important for controlling the composition of epitaxial layers deposited on the substrates. The large offcut angle is offered for n-type GaN, unintentionally doped with oxygen, with a high free carrier concentration of around 1x1019 cm-3. The wafers are of high structural quality typical for AMMONO-GaN: threading dislocation density at the level of 5x104 cm-2 and extremely flat crystallographic planes (radius of curvature above 20 m and FWHM values of X-ray rocking curves of about 20 arcsec for slit size slit 100 μm × 100 μm).

W dniu 13. grudnia 2017 Rada Naukowa IWC PAN nadała stopień doktora nauk fizycznych naszemu Koledze z Laboratorium Krystalizacji Tomaszowi Sochackiemu.

Praca doktorska pt.

Procesy wzrostu i własności fizyczne monokryształów GaN otrzymywanych metodą wodorkową (HVPE) na podłożach GaN z metody amonotermalnej.

na wniosek Komisji Doktorskiej i recenzentów uzyskała wyróżnienie.

Gratulujemy Panu Doktorowi!

Treść rozprawy doktorskiej

Recenzja 1, Recenzja 2

Z przyjemnością zawiadamiamy, że podczas konferencji naukowo technicznej Modern Industry – nowe technologie w przemyśle organizowanej 14 listopada podczas II Międzynarodowych Targów Warsaw Industry Week 2017 Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk został uhonorowany wyróżnieniem za „Opracowanie technologii generowania struktur nanokrystalicznych w metalach i stopach metali”. Na konferencji zostały wygłoszone dwa referaty, dr inż. Jacka Skiby pt. „Badania ultrawytrzymałych nanomateriałów uzyskanych na drodze unikalnej metody przeróbki plastycznej - wyciskania hydrostatycznego” oraz dr inż. Mariusz Kulczyka pt. „Przykłady zastosowania ultrawytrzymałych materiałów po procesie wyciskania hydrostatycznego w nowoczesnych rozwiązaniach przemysłowych”.